仪器名称

光 刻 机

型    号

MA6

仪器编号

仪器来源

生产厂商

德国SUSS

启用日期

仪器类别

仪器原值

1431400.0元

所在单位部门

中科院化学研究所-高技术实验室

仪器负责人

王  娟

联系电话

010-62639779

010-62562871

地      址

北京市海淀区中关村北一街2号3号楼0104

邮    编

100190

E-mail

wjlip@iccas.ac.cn

主要技术指标

曝光光源：UV400光学系统

曝光范围：Φ6inch

曝光线条分辨率：≤0.8μm

对准调节分辨率：0.1μm         

最大模板尺寸：7×7英寸

包含主要附件

仪器主要功能

掩膜版曝光；可实现接触式和间隙曝光；可进行间歇曝光。

仪器服务领域

先进封装、化合物半导体、功率器件、太阳能、纳米技术和晶圆片级光学系统等领域的光刻需求 

计量认证资质

否

实验室认可

否

仪器现状

正常

收费标准

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